本书是关于集成光学的一本入门教材,系统而扼要地介绍了这一新兴学科的原理、材料、工艺与技术发展。
全书共分为8章,内容包括:集成光学的概念、发展现状和意义;平面介质光波导和耦合模理论;晶体在外场作用下的光学性质;集成光有源器件;集成光无源器件;集成光学器件使用的材料;集成光学器件的主要制作工艺及光波导参量的测试等。
本书适于高等院校电子科学与技术、光学工程、光电子技术、光信息科学技术及通信工程等专业高年级本科生作教材使用,也可供相关领域科技人员阅读参考。

序言
前言
第1章 概论
1.1 集成光学的概念
1.2 集成光学的特点
1.3 集成光学的发展和现状
1.4 研究集成光学的意义
习题
参考文献
第2章 平面介质光波导和耦合模理论
2.1 平板光波导的射线光学分析
2.2 平板光波导的波动方程分析
2.3 条形光波导的波动方程分析
2.4 耦合模理论
习题
参考文献
第3章 晶体在外场作用下的光学性质
3.1 晶体光学简介
3.2 电光效应
3.3 声光效应
3.4 热光效应
3.5 磁光效应
3.6 非线性光学效应
习题
参考文献
第4章 光有源器件
4.1 半导体激��器和集成光源
4.2 半导体光放大器
4.3 集成光探测器
习题
参考文献
第5章 集成光无源器件
5.1 基本元件
5.2 电光集成器件
5.3 声光集成器件
5.4 热光开关和调制器
5.5 磁光隔离器和环行器
习题
参考文献
第6章 系统集成
6.1 光集成的方式
6.2 光集成的类型
6.3 光集成的技术途径
习题
参考文献
第7章 集成光学器件的材料
7.1 集成光学器件用材料的共同要求
7.2 半导体材料
7.3 介质材料
7.4 聚合物材料和玻璃材料
7.5 磁性材料
习题
参考文献
第8章 集成光学器件的主要制作工艺及平面介质光波导参量的测试
8.1 薄膜淀积技术
8.2 薄膜外延生长技术
8.3 微细图形加工技术
8.4 条形光波导及典型器件的制作
8.5 光波导主要参量的测量
习题
参考文献
附录 缩略语表