肖定全等编著的《薄膜物理与器件》主要论述了薄膜物理与薄膜器件
的基本内容,并概括介绍了在新材料技术领域中有着重要应用的几类主要
的薄膜材料。书中比较系统地介绍了薄膜的物理化学制备原理与方法,包
括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术等;同时
介绍了薄膜的形成,薄膜的结构与缺陷,薄膜的电学性质、力学性质、半
导体性质、磁学性质、超导性质等;此外,还扼要介绍了几类重要薄膜材
料及其性能,分析归纳了相关研究发展动态。
《薄膜物理与器件》可作为材料科学与工程、电子科学与工程、电子
材料与元器件、半导体物理与器件、应用物理学等专业的教材或��学参考
书,也可供相关科技、企业、公司的管理和技术人员参考。
**章 真空技术基础
1.1 真空基础
1.2 稀薄气体的性质
1.3 真空的获得
1.4 真空的测量
习题与思考题
第二章 薄膜的物理制备工艺学
2.1 薄膜制备方法概述
2.2 真空蒸发镀膜
2.3 溅射镀膜
2.4 离子束镀膜
2.5 分子束外延技术
2.6 脉冲激光沉积技术
习题与思