本书是国际上**本详细介绍脉冲激光沉积动力学原理的专著。主要介绍了作者建立的反映该技术各个阶段物理过程的统一动力学模型；反映等离子体演化近场、中场和远场行为的基本方程，以及椭球羽辉形成的机制；关于烧蚀阶段中固液相界面动态规律，以及热源项、蒸发项、吸收率动态变化和非傅里叶效应的影响；等离子体薄膜蒙特卡罗(Monte carlo)模拟，以及在生长过程中若干自组织现象规律。
本书完整、深入地总结了作者在自洁净玻璃和空芯光纤的研究中诸多具有**性的研究成果：在玻璃基上制备具有光催化和节能双重功能的Ti02薄膜和TiO2／TiN／TiO：多层薄膜；制备以石英玻璃毛细管为基的多种高反射薄膜、不同体系的全反射薄膜等多种体系材料，并用于制备空芯光纤。有关材料的制备工艺、性能表征和机制研究具有深远的应用背景。
本书的两部分具有相对的独立性，但是内容彼此呼应，具有内在的逻辑联系，互补性很强，形成完整的科学结构。因此，尽管本书的内容完全取自*新研究成果，但是其系统性和可读性却很强。本书适合于从事材料科学和凝聚态物理研究的科学工作者，也可作为有关领域的博士生或硕士生的教科书和参考书。

总序
前言
上篇 脉冲激光沉积动力学
第1章 薄膜材料与制备方法引论
1.1 薄膜材料的特点
1.2 常见的薄膜材料
1.2.1 结构薄膜材料
1.2.2 功能薄膜材料
1.3 铁电薄膜材料
1.3.1 铁电薄膜材料的结构、性能与应用
1.3.2 铁电薄膜制备
1.4 钽铌酸钾铁电薄膜材料
1.4.1 KTN材料的结构与相变
1.4.2 KTN材料的介电与铁电性能
1.4.3 KTN薄膜的制备、实验研究现状及发展趋势
1.5 常见的薄膜制备方法
1.5.1 真空蒸发沉积
1.5.2 分子束外延法
1.5.3 溶胶一凝胶法
1.6 溅射法
参考文献
第2章 薄膜的缺陷和界面与实验表征
2.1 薄膜的缺陷
2.1.1 点缺陷
2.1.2 线缺陷
2.2 薄膜的界面与薄膜间的相互扩散
2.2.1 薄膜与衬底间的界面
2.2.2 不同材料薄膜之间的界面
2.3 常见的实验表征方法
2.4 X射线衍射分析
2.5 扫描隧道显微镜
2.6 扫描近场光学显微镜
参考文献
第3章 脉冲激光沉积技术及其Z-L模型一般描述
3.1 PLD技术发展过程
3.2 PLD技术制备薄膜的实验工艺
3.3 PLD技术制备过程的一般描述
3.3.1 PLD技术的物理图像的一般描述
3.3.2 激光与靶材的相互作用
3.3.3 等离子体膨胀
3.3.4 衬底上沉积成膜
3.4 PLD技术的Z—L模型简介
3.4.1 脉冲激光烧蚀靶材过程的描述
3.4.2 等离子体的空间膨胀过程研究
3.4.3 薄膜沉积特性研究
3.4.4 等离子体冲击波模型
参考文献
第4章 激光烧蚀的基本模型与含热源项模型
4.1 激光烧蚀产生的烧蚀面的位置演化规律
4.1.1 烧蚀过程的基本物理图像
4.1.2 烧蚀面的位置演化规律
4.2 烧蚀方程的导热方程和定解条件
4.2.1 导热方程与定解条件
……
第5章 含蒸发项和热源项的以及靶材吸收率烧蚀模型
第6章 等离子体的演化及冲击波规律研究
第7章 薄膜生长过程研究
第8章 相爆炸和PLD技术机制研究*新进展
第9章 TiO2薄膜光化催化自洁净玻璃的溶胶-凝胶技术制备研究
第10章 TiO2薄膜的磁控溅射法制备
第11章 玻璃基TiO2/TiN/TiO2多层膜的溅射制备
第12章 石英玻璃毛细管内高反射薄膜的制备
第13章 全反射与全反射薄膜空芯光纤
第14章 毛细管内薄膜制备技术的研究
第15章 致密氧化铝薄膜全反射空芯光纤的研究
第16章 GeO2基全反射薄膜空芯光纤的制备研究
跋
后记