本书从半导体量子异质结构的晶格失配出发，首先介绍了弹性力学的基本概念和基本理论，并在此基础上讨论了应变量子异质结构应力、应变分布的模型和计算方法。此外，原子势函数法也广泛应用于量子异质结构应力、应变计算，本书对其也做了适当的介绍。本书以位错理论为基础，讨论了异质结构中位错应力、应变分布的有限元计算方法，并以能量平衡判据分析了异质结构中位错产生的临界厚度或临界尺寸。基于能量化，本书分析了热力学平衡条件下量子异质结构的材料组分与形貌、尺寸的相关性。在组分和应变的基础上，本书介绍了能带结构计算的多带k·p理论、量子异质结构中电子结构的计算方法，以及如何采用应变工程的方法调控量子异质结构的生长和光电特性。后本书介绍了腔量子电动力学理论及其在“光学微腔 量子点”系统的应用，并介绍了基于几何投影法设计和优化光学微腔的结构，以提高量子点自发辐射率和辐射光子的捕获率。 本书可供半导体光电子专业的研究生和高年级本科生使用，或者供从事相关专业的工程技术人员参考。